摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 全息立体3D数码显示屏的制作方法
    本实用新型涉及电子数码显示,更具体地说,涉及家用电器前置功能板全息立体3D数码显示屏。现有数码屏都采用LED晶元绑定在PCB上,然后用环氧树脂灌封在塑料壳上,表面贴一层PVC膜片,组成LED显示模块。LED数码显示屏多用于电子产品及器械显示面板上,起功能提示,美化外观的作用。随着人...
  • 一种水冷式激光打印机的制作方法
    本实用新型涉及打印机散热,具体是一种水冷式激光打印机。激光打印机的工作步骤是打印时,让纸张通过打印组件,用一定范围的高温作用在纸张上,将转印到纸张上的碳粉加热融化固定在纸张上。为防止发生烫伤使用者的情况,打印都是安装在打印机内部,使用风扇向打印机外部散热。当打印机内部温度超过规定值...
  • 一种应用在打印机和复印机上的上压辊的制作方法
    本实用新型为机械设备,具体涉及一种应用在打印机和复印机上的上压辊。现有行业内所生产的复印机或打印机用的上压辊在精度、抗冲击性和轴跳动等都较差。发明内容本实用新型为了解决上述问题,目的是这样实现的:一种应用在打印机和复印机上的上压辊,其特征在于,包括第一轴头、第二轴头和铝管,所述第一...
  • 多功能显影盒的制作方法
    本实用新型涉及电子照相成像领域,尤其涉及一种可拆卸地安装在电子照相成像设备中的显影盒,终端用户可根据需要控制显影盒在完成计数后是否自动复位。显影盒是电子照相成像设备工作时必需的消耗品,利用静电成像原理,被容纳在显影盒中的显影剂在感光件上将静电潜像显影,然后,被显影后的静电潜像转印到成像介质...
  • 显影盒的制作方法
    本实用新型涉及电子照相成像领域,尤其涉及一种可拆卸地安装在电子照相成像设备中的显影盒,所述显影盒在完成计数后,操作者在显影盒的外部即可完成显影盒的复位操作。显影盒是电子照相成像设备工作时必需的消耗品,利用静电成像原理,被容纳在显影盒中的显影剂在感光件上将静电潜像显影,然后,被显影后的静电潜...
  • 一种硒鼓自动剖壳设备的制作方法
    本实用新型属于硒鼓加工设备,特别涉及一种硒鼓自动剖壳设备。目前,市场上现有的硒鼓在再生生产过程中,需在硒鼓中的粉仓盖与粉仓进行剖壳处理,然而现有厂家都是采用手工撬刀来将硒鼓的粉仓盖与粉仓撬开,完成剖壳;但是这种传统采用人手撬开的方式存在以下缺点:(1)靠人工的控制,剖开处的直线度和...
  • 显影盒的制作方法
    本实用新型涉及电子照相成像领域,尤其涉及一种适用于电子照相成像设备中的显影盒。电子照相成像是利用加载有成像信息的激光照射光敏件表面,在光敏件表面形成静电潜像,再利用显影剂将静电潜像显影,然后再由光敏件将显影后的静电潜像转移至成像介质,最后被定影固化的过程。常见的,用于显影静电潜像的显影剂被...
  • 一种晶圆显影承载机构及显影机的制作方法
    本实用新型涉及显影,尤其涉及一种晶圆显影承载机构及显影机。槽式显影机是将晶圆放置于显影液体中,利用显影液与光刻胶的化学反应将经过曝光的晶圆表面图形去除或存留的设备,显影过程中需将晶圆上下小幅度移动,以达到更好的显影效果。目前,使用得较多槽式显影机多为手动,其设计结构存在缺陷人员手动...
  • 一种新型的防焊双面LED曝光机的制作方法
    本发明涉及PCB制造板曝光机,尤其涉及一种新型的防焊双面LED曝光机。在PCB制造板制造设备领域,影像转移工序主要有内层、外层、防焊,目前内层、外层工艺对于双面曝光都已成熟,但对于防焊工序目前传统的还是单面曝光或使用全自动曝光机分先后两面曝光(也是两台曝光机中间搭配翻板机翻转180...
  • 一种电子元件生产的光刻装置的制作方法
    本实用新型涉及电子元件,尤其涉及一种电子元件生产的光刻装置。电子元件是组成电子产品的基础,常用的电子元件有:电阻、电容、电感、电位器、变压器等,在晶圆的制造过程中,晶体三极管、二极管、电容、电阻和金属层的各种物理部件在晶圆表面或表层内构成。这些部件是每次在一个掩膜层上生成的,并且结...
  • 一种涂胶显影设备的装载台机械臂的制作方法
    本实用新型涉及半导体集成电路制作领域,尤其涉及一种涂胶显影设备的装载台机械臂。目前,在半导体器件的制造中,需要使用到涂胶显影设备,涂胶显影设备是集成电路生产过程中,在晶片表面涂敷感光胶并加温固化,待图形曝光后再进行显影成型的设备。装载台机械臂将装载台上的晶圆片抽取、吸着并传送到设备中进行涂...
  • 一种应用于曝光机领域的防粘板装置的制作方法
    本实用新型涉及曝光机领域,尤其涉及一种应用于曝光机领域的防粘板装置。PCB平放在曝光平台,套入PIN针是工艺层间对位所必须的,执行关框后进入抽取真空曝光流程,待曝光完成后开启上框架时因PCB板与上框架会存在内真空,此时PCB板会被上框架粘住随着一起走,在这过程也可能因内真空低致使PCB直接...
  • 一种锁定牢固的光罩盒的制作方法
    本实用新型涉及半导体器件的加工工艺,更具体地是涉及一种锁定牢固的光罩盒。在现有的半导体中,普遍利用光罩采用光刻工艺来生产IC或晶圆。在生产过程中对光罩的要求极高,光罩所处环境的无尘等级也很高。光罩在存放、搬运和运输时也需要比较稳定密闭的环境,所以现有技术中一般是将光罩存放在...
  • 一种四边形光罩的定位夹紧结构和一种光罩盒的制作方法
    本实用新型涉及半导体器件的加工工艺,更具体地是涉及一种四边形光罩的定位夹紧结构和一种光罩盒。光罩一般是由透明玻璃作为基底,在基底上面镀有一层金属铬和感光胶,把设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩...
  • 一种掩膜版的防尘保护结构的制作方法
    本实用新型涉及半导体器件的加工工艺,更具体地是涉及一种掩膜版的防尘保护结构。在半导体集成电路制造工艺中,光刻工艺是最为重要的步骤之一。光刻工艺的好坏直接影响半导体器件的关键尺寸和产品质量。在光掩膜基版上刻蚀出掩膜图形后形成掩膜版,掩膜版是光刻工艺中复制图形的基准和蓝本,掩膜版上的任...
  • 一种光罩保护膜贴合装置的制作方法
    本实用新型涉及半导体器件的加工工艺中的光掩模,更具体地是涉及一种光罩保护膜贴合装置。光罩是光刻工艺中重要的制程元件。光罩一般采用透明玻璃作为基板,在基板上经过喷涂、光刻、蚀刻、显影等一系列工艺制作出图案形成掩膜版。为了防止尘埃颗粒等污染物落在掩膜版上影响后续工艺,通常在掩膜版上罩有...
  • 掩膜组件的制作方法
    本实用新型属于集成电路制造,特别是涉及一种掩膜组件。在现有的半导体工艺中,在进行多层光刻工艺时,需要将各层之间进行套准量测以确定层与层之间是否对准。最常用的方法为通过在各层中形成用于对准的图形标记,通过对图形标记的量测来判断层与层之间是否有偏移。此外,用于对准的图形标记中一般需要有...
  • 一种可快速控制显影精度的光罩版的制作方法
    本实用新型涉及半导体器件的加工工艺,更具体地是涉及一种可快速控制显影精度的光罩版。目前,光罩版制作过程中的显影工艺主要是依靠控制显影液的浓度、显影的时间和显影的手法等来控制显影的精度。显影的精度受工艺环境的影响较大,工艺条件的差异性和显影手法的熟练程度都会影响显影的精度。现有技术主...
  • 缩微胶片扫描仪的制作方法
    本申请涉及冲洗,尤其涉及一种缩微胶片扫描仪。在现代信息社会中,档案、图书和情报资料增长的速度很快,据统计,全世界信息量每8-10年就增长一倍。有人用"铺天盖地"、"泛滥成灾"来描述其增长速度。随着档案、图书和情报资料的迅速增长,其存储空间也不断增大。这就会给档案、图书、情报资料的利...
  • 用于投影的金属抗光屏的制作方法
    本申请属于投影,具体涉及一种用于投影的金属抗光屏。投影幕布是用在电视图像、视频文件的工具,应用越来越广。平面幕布通常有金属幕布、玻珠幕布、压纹塑料幕布、弹性幕布等。其中,金属幕布平整度高,反光性好,具有一定的增益效果,提高了画面的亮度,但是通常的金属幕布是在非金属屏基底的表面形成金...
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